超聲波清洗技術(shù)的最新發(fā)展
1、高頻超聲清洗
對(duì)于象硅片表面小至零點(diǎn)幾微米的超微污物粒子，常規(guī)的超聲波清洗器無(wú)能為力，即使增加功率密度也無(wú)濟(jì)于事。近年來(lái)發(fā)展了一種兆赫茲級(jí)的高頻超聲清洗技術(shù)，由于頻率高，空化效應(yīng)已不起作用，因此清洗的關(guān)鍵不是氣泡，是高頻壓力波的擦洗作用，其對(duì)污物的去除率接近百分之百。高頻清洗進(jìn)來(lái)發(fā)展較快，主要用于超大規(guī)模集成電路芯片上的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。

2、聚焦式清洗
對(duì)于象紡織行業(yè)的噴絲板、過(guò)濾器之類微孔物件的清洗，常規(guī)的超聲波清洗機(jī)清洗效果十分不理想，聲強(qiáng)達(dá)不到要求，而采用機(jī)械掃描聚焦式超聲清洗，噴絲板微孔中的污物脫離十分明顯。聚焦式清洗要求達(dá)到高的聲強(qiáng)，目前選用的頻率以低頻為主，常用 20kHz和15kHz兩種頻率，個(gè)別的頻率也有28kHz的，其電功率在連續(xù)波情況下一般為500～700W，間隙脈沖工作狀態(tài)下，功率可高一些。